111SKIN представляет кислородную экспресс-маску. Стимулирующая маска предназначена для тонизирования и подтягивания кожи лица для придания ей более молодого вида. Вдохновленная технологией криотерапии, маска использует кислород и АТФ для увлажнения и оживления кожи. Поры и блеск минимизируются благодаря матирующему и успокаивающему фитокомплексу. Богатые антиоксидантами экстракты египетского огурца, цзяогулана и женьшеня обеспечивают эффект лифтинга, а комплекс гиалуроновой кислоты насыщает кожу влагой. Ожидайте обновленный цвет лица с усиленным сиянием. Подходит для всех типов кожи.
Нанесите обильное количество средства на чистую кожу и оставьте на 5 минут или до полного высыхания. Смойте водой и следуйте своему обычному уходу.
Поскольку эта маска содержит большое количество активных ингредиентов, 111SKIN рекомендует использовать ее 2-3 раза в неделю.
AQUA / WATER / EAU, GLYCERIN, GLYCERYL GLUCOSIDE, PENTYLENE GLYCOL, 1,2-HEXANEDIOL, ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER, POLYGLYCERYL-10 OLEATE, HYDROXYACETOPHENONE, DICAPRYLYL ETHER, MALTODEXTRIN, POLYGLYCERYL-10 STEARATE, ALOE BARBADENSIS (ALOE VERA) LEAF EXTRACT, LAMINARIA JAPONICA (KELP / VARECH) EXTRACT, DIOSCOREA JAPONICA ROOT EXTRACT, ULMUS DAVIDIANA ROOT EXTRACT, VIOLA MANDSHURICA FLOWER EXTRACT, GLUCOSE, BUTYLENE GLYCOL, HYDROGENATED LECITHIN, ASIATICOSIDE, MADECASSIC ACID, ASIATIC ACID, TROMETHAMINE, GLYCERYL ACRYLATE/ACRYLIC ACID COPOLYMER, SODIUM HYALURONATE, POTASSIUM HYALURONATE, SODIUM HYALURONATE CROSSPOLYMER, HYDROXYPROPYLTRIMONIUM HYALURONATE, HYDROLYZED HYALURONIC ACID, HYALURONIC ACID, HYDROLYZED SODIUM HYALURONATE, SODIUM ACETYLATED HYALURONATE, LUFFA CYLINDRICA ROOT EXTRACT, TOCOPHEROL, SUCCINIC ACID, MADECASSOSIDE, ASIATICOSIDE, OENOTHERA BIENNIS (EVENING PRIMROSE / PRIMROSE DU SOIR) FLOWER EXTRACT, PUERARIA LOBATA ROOT EXTRACT, PINUS PALUSTRIS LEAF EXTRACT, OXYGEN, PANAX GINSENG ROOT EXTRACT, GYNOSTEMMA PENTAPHYLLUM EXTRACT, PHENOXYETHANOL, MENTHOXYPROPANEDIOL, DISODIUM EDTA, ENANTIA CHLORANTHA BARK EXTRACT, OLEANOLIC ACID, ALLANTOIN.